申城微电发展得很好。
和国外比起来，申城微电的光刻机在制程上面的确要差了不少，可差的也不多。
也并不是说就没有机会超越。
比如说申城微电早就已经启动了euv光刻机的研制。
研究euv光刻机难度极其的大。
之前的光刻机是用的光源是深紫外光，现在申城微电实现量产的130纳米光刻机依旧使用的深紫外光。
可euv光刻机得要用极紫外光。
而极紫外光刻机早在八十年底的时候就被提出，1999年的时候asml公司开始进行研发，计划在2004年的时候推出产品。
只不过到2010年的时候才做出原型机，到了2016年的时候才实现向下游客户供货，比预期之中整整的晚了十二年时间。
韩松林对光刻机了解不多，可也是知道euv光刻机的，能够将芯片制程给做到7纳米，甚至5纳米，3纳米，就只有euv光刻机能够做到。
而asml公司能够在未来独霸全球，占据全球光刻机市场百分之八十的市场，就因为人家在技术路线的选择上面走对了。
韩松林知道，光刻机有两样东西很重要：光源和光学透镜。
为此在星辰院专门的成立了光源研究所和光学研究所。
光学镜片这块，华国的确要差了些。
全球在光学透镜技术这块，最好的要数汉斯国和岛国。
汉斯国的蔡司和莱卡，岛国的尼康和奥林巴斯。
这四家公司是最顶级的光学企业。
“老板，这就是我们实现量产的sw2002光刻机！”
这光刻机在2002年的时候就造出了原型机，经过一年多时间的研发之后，才是实现量产。
速度上面来说，已经算不错了。
对于研发人员的努力，韩松林从来都不会怀疑，华国的研发人员在全球范围内，都属于最苦逼的。
工资低，工作时间长！
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