微观领域，是有更加锋利的刀。”
“我们在环形粒子加速器上塑造一个类似于波荡器的装置，当被加速的电子束通过这个装置的时候，从外界再打入一道高能激光。
将加速器之中的电子束给进行更加规律的排列，这样他们发出的辐射能量会变得集中。
这也就能够让环形粒子加速器的同步辐射光源发出类似直线加速器的自由电子激光。
这样的话，这束光就同时具有同步辐射的纯净性，又获得了自由电子激光的高能特性，可以应用在光刻领域了。”
张星扬在末尾，想了想还是补充了一下：
“不过这样也会有一个小缺陷。”
“什么缺陷？”
前面的技术原理，孙洪涛也是半懂不懂。
“光刻设备的体型会比较大。”
“芯片制造厂，需要围绕着光刻机来建设！”
本章技术理论来源于清华大佬团队的SSMB-EUV方案，目前还没有准确消息，仅供娱乐。
(本章完)
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